삼성 EUV 공정 자료가 대학 연구실 밖으로 나간 경위와 남은 변수 🔬

회사 신분증을 두 개 가진 사람이 있다면, 어느 쪽 비밀을 지켜야 할까요.

같은 뉴스, 네 가지 시선. AILENS입니다. 2026년 10월 28일 기준으로, 전날 보도된 내용을 짚어보겠습니다.

삼성전자 반도체 공정실. 신입 연구원처럼 사원증을 찍고 들어가는 한 사람이 있습니다. 그런데 이 사람, 사실은 대학 산학협력단 소속입니다.

이 연구원, A씨는 삼성전자에 재직하던 시절이 있었습니다. 그때 반도체 공정 자료를 개인 클라우드에 옮겨뒀습니다. 그러고 나서 산학협력 연구원으로 자리를 옮겼는데, 바로 이 과정에서 다시 삼성전자 직원 신분을 얻게 됩니다. 산학협력이라는 제도가, 외부 연구자에게 일정 기간 회사 내부 기술에 접근할 권한을 주거든요. A씨는 그 권한으로 다시 내부 정보에 손을 댔습니다.

서울중앙지방공소청 중대범죄기소5부는 지난 26일, A씨를 산업기술보호법 위반 혐의로 불구속 기소했습니다.

이게 한 사람의 일탈로 끝나는 이야기가 아닙니다. A씨가 빼낸 자료는 삼성전자가 아직 세상에 내놓지 않은 차세대 반도체의 EUV 노광 공정 정보였습니다. EUV는 아주 짧은 파장의 빛으로 웨이퍼에 미세한 회로를 새기는 기술입니다. 반도체 집적도를 끌어올리는 핵심 공정 중 하나죠. 여기에 쓰이는 감광 물질, 포토레지스트의 종류부터 공정 온도, 용매 같은 세부 조건까지 포함돼 있었던 것으로 알려졌습니다. 아직 출시되지 않은 제품의 설계도 일부가 밖으로 나간 셈입니다.

다만 다른 측면도 있습니다. 공소청은 일부 정보가 외부로 유출된 정황을 의심하고는 있지만, 중국 등 해외로 넘어갔다는 사실은 확인되지 않았습니다. 삼성전자가 자료 반출 사실을 비교적 빠르게 포착하면서, 국외로 흘러가기 전에 수사가 시작된 것으로 전해집니다. 그리고 공소청이 A씨에 대한 구속영장을 청구했지만, 법원은 이를 기각했습니다. A씨가 수사에 협조하고 있다는 점이 이유였습니다.

그런데 여기서 풀리지 않는 지점이 남습니다. 해외로 넘어간 증거는 없다지만, 정황상 의심은 여전히 남아 있다는 거거든요. 그리고 이 자료가 어디까지 더 퍼졌는지, 완전히 선을 그을 수 있는지는 아직 확인되지 않았습니다. 법조계의 한 관계자는 이번 사건을 두고 "기존 유출 방식과는 다른 변종 수법"이라고 했습니다. 실제 상용화되기 전의 공정 정보가 외부로 넘어갔다는 사실 자체만으로도 기업에 막대한 피해를 줄 수 있다는 겁니다.

정리하면, 오늘 핵심은 이겁니다. 산학협력이라는, 원래는 기술 발전을 위한 제도가 오히려 내부 정보에 접근하는 또 하나의 통로가 될 수 있었다는 점입니다. 해외 유출은 아니었지만, 아직 나오지 않은 기술의 설계도가 회사 밖으로 나갔다는 사실 그 자체가 이미 피해였다는 거죠.

같은 뉴스, 네 가지 시선. AILENS였습니다.